废气处理--VOCs工艺

我公司总结国内外同类产品的生产经验，对吸附塔进行改进设计，附属设备配套齐全，吸附能力强，净化效率高，活性炭使用周期长，更换方便，更适用于大风量低浓度的有机废气治理，同时针对不同工艺生产中所排放的废气特性，如排放废气温度、是否含有油雾、粉尘等相关参数，在废气设备进口部分内置或增设冷却器、过滤器等预处理装置或功能段。很好的保护了吸附段，确保吸附塔在高效状态下运行。

1、吸附效率高，吸附容量大；
2、能够同时处理多种混合有机废气；
3、设备构造紧凑，占地面积小，维护管理简单，运转成本低廉；
4、采用自动化控制运转设计，操作简易、安全；
5、全密闭型，室内外皆可使用。

⊙工艺特点

一、活性炭吸附

业务介绍

活性炭吸附处理有机废气是通过利用高性能活性炭吸附剂固体本身的表面作用力，将有机废气分子吸引附着在吸附剂表面，可广泛应用于石油、化工、橡胶、油漆、涂装、印刷等行业产生的苯、醇、酮、酯等各类工业有机废气吸附。由于该技术投资费用低，处理效果明显，是目前应用最为广泛的有机废气（V0C)治理技术。

臭氧对紫外线光束照射分解后的有机物具有极强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有良好的削除效果。光氧催化与活性氧物质(·O，H2O2)进行协同分解氧化反应，使恶臭气体物质降解转化成低分子化合物、二氧化碳和水，再通过排风管道排出室外。

二、UV光氧催化

⊙性能特点

光氧催化是利用TiO2作为催化剂的光催化过程，反应条件温和，光解迅速，产物为CO2和H2O或其它，而且适用范围广，包括烃、醇、醛、酮、酯、氨等有机物，都能通过TiO2光催化清除。其机理主要是光催化剂二氧化钛吸收光子，与表面的水反应产生羟基自由基(·OH)和活性氧物质(·O，H2O2)，其中羟基自由基(·OH)是光催化反应的一种主要的活性物质，对光催化氧化起决定作用。

1、高效除恶臭：能高效去除挥发性有机物（VOC)及各种恶臭味，脱臭效率最高可达99%以上。
2、无需添加任何物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力。
3、适应性强：可适应高浓度，大气暈，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。
4、运行成本低：本设备无任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护。
5、无需预处理：工作环境温度在摄氏之间，湿度在30%-98%、PH值在3-13之间均可正常工作。
6、设备占地面积小，自重轻：处理10000m3/h风量设备占地面积<1平方米。
7、优质进口材料制造：防火、防爆、防腐蚀性能高，设备性能安全稳定。
8、环保高科技产品:采用国际上最先进技术，可彻底分解恶臭气体中有毒有害物质，并能达到完美的脱臭效果，经分解后的恶臭气体，可完全达到无害化排放，绝不产生二次污染。

羟基自由基具有120kJ/mol的反应能，高于有机物中的各类化学键能，如：C-C(83kJ/mol)，C-H(99kJ/mol)，C-N(73kJ/mol), C_O（84kJ/mol)，H-O（111kJ/mol)，N_H(93kJ/mol)，因而能迅速有效地分解挥发性有机物和构成细菌的有机物，高能UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需要与氧分子结合，进而生成臭氧。

低温等离子技术是我公司从科罗纳实验室引进的针对大流量、低浓度有机废气特点独创的具有国际先进水平的降解技术，其核是首先用低温等离子体产生高能量电子，直接分解废气因子中的有害气体，使其迅速形成小分子碎片，降解生成CO2, H2O等，再利用副产物的氧化作用，降解尚未完成降解的各类有害气体，从而达到对有机废气较为满意的综合降解效果。

1、介质阻挡放电产生的低温等离子体中，电子能量高，几乎可以和所有的气体分子作用。
2、反应快，不受气速限制。
3、电极与废气不直接接触，不存在设备腐蚀问题。
4、只需用电，操作极为简单，无需专人员看守，基本不占用人工费。
5、设备启动、停止十分迅速，随用随开，不受气温的影响。
6、气阻小，适用于高流速，大风暈的废气处理。
7、工艺已相对成熟。
8、节能环保，电耗仅为3-5w/m3。
9、使用范围广，-60℃+450℃，在含有灰尘、焦油、水汽、气溶胶和PM的环境下仍可正常运行；

低温等离子体技术处理污染物的原理为：在外加电场的作用下，介质放电产生的大量高能电子轰击污染物分子，使其电离、解离和激发，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。然后便引发了一系列复杂的物理、化学反应，使复杂大分子污染物转变为简单小分子安全物质，或使有毒有害物质转变为无毒无害或低毒低害物质，从而使污染物得以降解去除。因其电离后产生的电子平均能量在1eV-10eV，适当控制反应条件可以实现一般情况下难以实现或使速度很慢的化学反应变得十分快速。

低温等离子体的产生途径很多，我们使用的低温等离子体处理工业废气技术采用的放电形式为双介质阻挡放电（Dielectric Barrier Discharge,简称 DBD)。

介质阻挡放电是一种获得高气压下低温等离子体的放电方法，由于电极不直接与放电气体发生接触，从而避免了电极的腐蚀问题

等离子内部结构

放电管放电效果

废弃收集罩

公司工程实例

三、低温等离子

⊙介质阻挡放电等离子体技术具有以下特点